光刻设备供应商ASMLHoldingNV公司日前在财务分析师与投资者会议上称，全球半导体市场将由2006年的50亿欧元(72亿美元)增长至2012年的100亿欧元(144亿美元)，每年增长率达到13%。

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　　ASML的预期是基于对半导体市场的预期、客户节点过度蓝图、以及更先进制程对更先进光刻设备的需求所作出的。ASML预期随着浸润式光刻设备的推进，在2010年公司营收达到50亿美元。    

    　ASML表示多项光刻技术正在同时开发来帮助下一代节点半导体工艺的实现，这些技术包括：深紫外光刻(EUV)、计算光刻(computationallithography)、两次图形曝光(doublepatterning)以及3D器件综合enablers(比如版图与CD一致性)等。